ナノレベル素材加工装置
エスプレイヤー ES-2000
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ES-2000は静電気力を利用してサンプルを基板上に補修(デポジット)することのできる、エレクトロスプレーデポジション(ESD)装置です。 |
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特徴
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常温・常圧で、様々な溶液を静電的にスプレー
できます。 |
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数十〜数百ナノレベルでの粒子・繊維構造制御、
表面形態制御が可能です。 |
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複数成分のナノミキシング、多層コーティングが
可能です。 |
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マスクとの組み合わせでマイクロパターニングが
可能です。 |
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用途
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ナノファイバー、ナノパーティクルの作製 |
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ポリマーによる薄膜・不織布の作製、
市販膜へのナノファイバーコーティング |
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無機物の薄膜化、多層化、
表面コーティング |
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ポリマー/セラミック複合素材、
セラミックナノファイナーの作製 |
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インプラントへのバイオセラミック
コーティング など |
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項 目 |
仕 様 |
形式 |
ES-2000 |
高電圧ユニット |
V1:3−30kV |
スプレーノズル |
金属ニードル(標準)
ガラスキャピラリ(オプション) |
サンプル送液 |
シリンジポンプによる送液 |
サンプル基板部 |
スプレー範囲10cmx10cm ポリカーボネート製シールド付き |
ビデオマイクロスコープ |
768x494ピクセル 白黒 41万画素 |
レーザー |
赤色半導体レーザー
635nm クラス2 |
XY自動ステージ
Zステージ |
可動範囲
100mmx100mm
可動範囲 100-200mm |
安全対策 |
過電流保護、筐体インターロック、非常停止スイッチ |
筐体 |
板金およびアクリル製、乾燥空気導入口、排気口付き |
OS |
Windows
XP またはWindows2000 |
外部インターフェイス |
RS-232C、BNC |
装置サイズ・重量 |
600(幅)x570(奥)x780(高さ) 約40kg |
電源・消費電力 |
AC100〜200V
50/60Hz 250W |
付属品 |
金属ノズル付シリンジ5本、ビデオキャプチャーカード、ケーブル類、
専用ソフト、 取扱説明書、保証書 |
別売り品・オプション |
コンピューター一式(ノート型付加)、消耗品 |
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※本機器の仕様に関しては、断りなく変更する場合がありますので、ご了承ください。 |